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冷卻水循環(huán)機M10K

具有斷電記憶功能；具有低液位保護，使用更放心；相關配件采用大品牌，性能穩(wěn)定且壽命長；具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等，安全防護更全面；多種規(guī)格泵壓和流量選擇；

友情提示:

我司可對溫度范圍，尺寸，樣式，流量，壓力等進行定制，滿足客戶的不同需求。吉米諾儀器，竭誠為您服務!

產(chǎn)品特點

> 精密恒溫控制系統(tǒng)，整個量程范圍的溫度精確可控，適用于5℃～35℃化工、制藥等化學反應工藝過程控制等；

> 制冷盤管采用不銹鋼/紫銅材質，易清洗；

> 細膩的隔熱和保溫設計，確保設備運行時，儀器表面溫度不會太低，影響冷量；

> 低噪音設計，免除實驗室噪音難題；

> 工作溫度范圍內的過溫安全保護功能，保護實驗安全；

> 具有斷電記憶功能；

> 具有低液位保護，使用更放心；

> 相關配件采用大品牌，性能穩(wěn)定且壽命長；

> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等，安全防護更全面；

> 多種規(guī)格泵壓和流量選擇；

技術參數(shù)

冷卻水循環(huán)機M10K（制冷量10KW）

型號	M12K
控溫范圍	5℃～35℃
溫度波動度	±0.5℃～1℃
顯示精度	0. 1℃
容積	120L/150L可選
溫度控制	PID控制
循環(huán)泵最大流量	50L/min
循環(huán)泵最大壓力	0～4bar可調
制冷量@20℃	12.5KW
外形尺寸	1150x760x1350mm
顯示方式	LCD觸摸屏顯示 PLC控制
電源電壓	380V/50Hz
安全性能	數(shù)顯溫度校準，傳感器開路、短路保護和報警，高低溫保護

應用范圍

> 光譜分析儀器、如原子吸收分光光度計、顯影機、激光脫毛機、小型激光機床、印刷機等使用；
> 單晶片洗凈轉載、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置的半導體制造裝置發(fā)熱部分的冷卻；
> 激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等激光裝置發(fā)熱部分的冷卻；
> 等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分機器發(fā)熱部分的冷卻；
> 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖條幅器的發(fā)熱部分、原子吸光光度計的光源的發(fā)熱部分的冷卻；
> 數(shù)控機床、加工中心冷卻介質的降溫等。