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冷卻水循環機M2K

冷卻水循環機為用戶提供恒溫，恒壓，恒流的液體環境，滿足需要冷卻水設備的需求。應用于各類實驗室和生產領域。

友情提示:

我司可對溫度范圍，尺寸，樣式，流量，壓力等進行定制，滿足客戶的不同需求。吉米諾儀器，竭誠為您服務!

產品特點

> 精密恒溫控制系統，整個量程范圍的溫度精確可控，適用于5℃～35℃化工、制藥等化學反應工藝過程控制等；

> 制冷盤管采用不銹鋼/紫銅材質，易清洗；

> 細膩的隔熱和保溫設計，確保設備運行時，儀器表面溫度不會太低，影響冷量；

> 低噪音設計，免除實驗室噪音難題；

> 工作溫度范圍內的過溫安全保護功能，保護實驗安全；

> 具有斷電記憶功能；

> 具有低液位保護，使用更放心；

> 多種規格泵壓和流量選擇；

技術參數

冷卻水循環機M2K（制冷量2KW）

型號	M2K	M2K
貨號	M2BK0100B	M2BK0450B
控溫范圍	5℃～35℃	5℃～35℃
溫度波動度	±0.5℃～1℃	±0.5℃～1℃
顯示精度	0. 1℃	0. 1℃
容積	20L	20L
溫度控制	PID控制	PID控制
循環泵最大流量	30L/min	7L/min
循環泵最大壓力	1.2bar	4.5bar
制冷量@20℃	2KW	2KW
外形尺寸	480x630x860mm	480x630x860mm
電源電壓	220V/50Hz	220V/50Hz
安全性能	數顯溫度校準，傳感器開路、短路保護和報警，高低溫保護	數顯溫度校準，傳感器開路、短路保護和報警，高低溫保護

應用范圍

> 光譜分析儀器、如原子吸收分光光度計、顯影機、激光脫毛機、小型激光機床、印刷機等使用；
> 單晶片洗凈轉載、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置的半導體制造裝置發熱部分的冷卻；
> 激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等激光裝置發熱部分的冷卻；
> 等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分機器發熱部分的冷卻；
> 電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖條幅器的發熱部分、原子吸光光度計的光源的發熱部分的冷卻；
> 數控機床、加工中心冷卻介質的降溫等。