- 產品特點
> 采用PID溫度控制技術,恒溫波動度±0.1℃;
> 細膩的隔熱和保溫設計,確保設備在+95℃運行時,儀器表面溫度不會太高,保證操作安全;
> 低噪音設計,免除實驗室噪音難題;
> 設備操作簡單,自動和手動2中模式,操作更方便;
> 工作溫度范圍內的過溫安全保護功能,保護實驗安全;
> 具有斷電記憶功能;
> 知名品牌壓縮機,制冷效率高;
> 相關配件采用大品牌,性能穩(wěn)定且壽命長;
> 全封閉磁力泵循環(huán)攪拌,溫場均勻;
> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等,安全防護更全面;
- 技術參數(shù)
密閉式低溫恒溫循環(huán)器QMD30-10
型號 |
QMD30-10 |
控溫范圍 |
-30℃~95℃(恒溫模式) |
-30℃~室溫(冷卻模式) |
|
溫度波動度 |
±0.1℃ |
±0.5℃~1℃ |
|
顯示精度 |
0. 01℃/0.1℃ |
溫度控制 |
PID自整定 |
制冷形式 |
單壓縮機制冷 |
安全性能 |
數(shù)顯溫度校準,傳感器開路、短路保護和報警,高低溫保護,低液位保護 |
密閉腔 |
10L |
外形尺寸 |
370x540x660mm |
傳感器 |
A級PT100 |
最大流量 |
15L/min |
最大壓力 |
0.8bar |
加熱功率 |
1500W |
制冷功率@20℃ |
800W |
電源 |
220V/50Hz/10A |
可選附件
> 可選配RS485通訊接口;
- 應用范圍
小型降溫控制系統(tǒng);
材料低溫老化測試;
化學設備冷源的溫度控制;
半導體設備的溫度控制;
高壓反應釜動態(tài)溫度控制;
雙層玻璃反應釜動態(tài)溫度控制;
雙層反應釜動態(tài)溫度控制;
微通道反應器溫度控制;
蒸餾系統(tǒng)控溫;
材料物質冷卻/加熱/恒溫檢測