密閉式低溫恒溫循環器QMD10-25

密閉式低溫恒溫循環器控溫范圍-10℃～95℃，恒溫波動度達到±0.1℃，給敞口液槽提供冷熱受控，溫度均勻恒定的恒溫源。

友情提示:

我司可對溫度范圍，尺寸，樣式，流量，壓力等進行定制，滿足客戶的不同需求。吉米諾儀器，竭誠為您服務!

> 采用PID溫度控制技術，恒溫波動度±0.1℃；

> 細膩的隔熱和保溫設計，確保設備在+95℃運行時，儀器表面溫度不會太高，保證操作安全；

> 低噪音設計，免除實驗室噪音難題；

> 設備操作簡單，自動和手動2中模式，操作更方便；

> 工作溫度范圍內的過溫安全保護功能，保護實驗安全；

> 具有斷電記憶功能；

> 知名品牌壓縮機，制冷效率高；

> 相關配件采用大品牌，性能穩定且壽命長；

> 全封閉磁力泵循環攪拌，溫場均勻；

> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等，安全防護更全面；

密閉式低溫恒溫循環器QMD10-25

型號	QMD10-25
控溫范圍	-10℃～95℃（恒溫模式）
控溫范圍	-10℃～室溫（冷卻模式）
溫度波動度	±0.1℃
溫度波動度	±0.5℃～1℃
顯示精度	0. 01℃/0.1℃
溫度控制	PID自整定
制冷形式	單壓縮機制冷
安全性能	數顯溫度校準，傳感器開路、短路保護和報警，高低溫保護，低液位保護
密閉腔	25L
外形尺寸	550x700x1000mm
傳感器	A級PT100
最大流量	20L/min
最大壓力	1.0bar
加熱功率	4000W
制冷功率@20℃	2000W
電源	380V/50Hz/16A

可選附件

> 可選配RS485通訊接口；

小型降溫控制系統；

材料低溫老化測試；

化學設備冷源的溫度控制；

半導體設備的溫度控制；

高壓反應釜動態溫度控制；

雙層玻璃反應釜動態溫度控制；

雙層反應釜動態溫度控制；

微通道反應器溫度控制；

蒸餾系統控溫；

材料物質冷卻/加熱/恒溫檢測